Легкий крем під макіяж

168.00 грн.

Немає в наявності

Артикул: 4820150752675

Легкий крем одночасно зволожує та живить шкіру, є чудовою основою для нанесення макіяжу.

До складу крему входить інноваційний активний компонент RESISTHYAL - гіалуронат натрію, гіалуронова кислота та молочна кислота. Про те, що в організмі не вистачає гіалуронової кислоти, повідомляє в першу чергу шкіра: вона стає сухою, з'являються зморшки, лущення. Гіалуронова кислота проникаючи в шкіру разом з зволожуючими речовинами утримує їх і підсилює, їх дію. У складі засобів для очищення шкіри та кремів гіалуронова кислота прискорює синтез колагену і еластину, що дозволяє зменшити зморшки і скорегувати овал обличчя.

Активні компоненти:

  • Оливковий сквалан
  • Коньяк маннан
  • Пантенол

1,5 % RESISTHYAL:

  • Гіалуронова кислота
  • Гіалуронат натрію
  • Молочна кислота

Застосування: Нанести невелику кількість засобу на очищену шкіру обличчя, розподілити масажними рухами. Можливе індивідуальне несприйняття натуральних компонентів.

60 ml
СКЛАД: Aqua (Water), Undecane (and) Tridecane*, Dicaprylyl Carbonate*, Caprylic / Capric Triglyceride*, Cetearyl Olivate, Sorbitan Olivate*, Cetearyl Alcohol*, Squalane*(оливковий сквалан), Vitis Vinifera Oil (олія виноградної кісточки), Borago Officinalis (Borage) Seed Oil (олія бораго), Simmona Chinensis (jojoba) Seed Oil, Sodium Hyaluronate (and) Hydrolyzed Hyaluronic Acid (and) Phenoxyethanol (and) Lactic Acid, Konjac mannane, Konnyaku (Amorphophallus konjac)*, D-Panthenol, Vanilla plantifolia [CO2] Extract (екстракт ванілі), Citrus sinensis [CO2] Extract (екстракт апельсину), Dehydroacetic Acid (and) Benzoic Acid (and) Phenoxyethanol, Fragrance.
*ECOCERT-COSMOS.
0